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2-target Dc Rf Magnetron Reactive Sputter Machine for Function Nano Thin Film Growth

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2-target Dc Rf Magnetron Reactive Sputter Machine for Function Nano Thin Film Growth
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重要属性

行业属性

涂层工艺
真空镀膜
电压
220 VAC
功率(马力)
3000 W

其他属性

类型
物理气相沉积 (PVD)
保修期
1年
重量 (KG)
300
加工材料
视频出厂验货
可提供
机械测试报告
可提供
核心组件
PLC, 泵
原产地
Henan, China
品牌
TN
尺寸(长×宽×高)
1400*750*1300 (mm)
核心卖点
价格富有竞争力
机器类型
涂装设备
名称
DC/DC转换器RF双用高真空2 "磁控等离子体溅射Coate
真空sus室
直径300毫米.x 300毫米高,
加载表
140毫米一500 ℃ 1-20rpm
磁控溅射头
2
直流电源
500W
RF电源
300W
气体流量控制器
4通道通过N2,Ar,O2,空气; 范围0-500sccm
真空泵
分子泵系统,抽速600L / S
极限真空
10-6乇
测厚仪
0.10埃
提供售后服务
视频技术支持, 在线支持
后保修服务
视频技术支持, 在线支持
本地服务位置
埃及, 加拿大, 土耳其, (大不列颠) 联合王国, 美国, 意大利, 法国, 德国, 巴西, 巴基斯坦, 印度, 墨西哥, 俄罗斯, 日本, 澳大利亚, 韩国
认证
CE

包装和发货信息

Packaging Details
wooden case
Port
Zhengzhou,China

供应能力

供应能力
110 套 per Month

交货时间

定制

供应商的产品说明

>= 1 sets
¥180,897.50

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