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石墨烯化学气相沉积
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等离子增强化学气相沉积设备PECVD带卷对卷系统
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具有精确温度控制的SiOx Ge-SiOx沉积反应器
¥136,842.01-¥138,428.16
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用于沉积厚SiOx Ge-SiOx薄膜的PECVD系统
¥136,842.01-¥138,428.16
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使用温度控制的CVD沉积光电材料
¥136,842.01-¥138,428.16
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化学气相沉积/CVD系统/石墨烯和碳纳米管沉积系统
¥10,814.70-¥43,251.60
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1000C石墨烯CVD炉化学气相沉积工厂价格
¥713,770.20
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化学气相沉积化学制造设备
¥1,441,960.00
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高质量热线化学气相沉积 (HFCVD) 用于制备金刚石膜
¥1,261,715.00-¥1,393,654.34
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关于石墨烯化学气相沉积
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